等離子(zǐ)清洗機(jī)利用等離子在低溫(wēn)下產生非平衡電子、反應離子和自由基的能力(lì)。等離(lí)子體中(zhōng)的高能反應基團轟擊表麵,導致濺射、熱(rè)蒸發或光降解(jiě)。等離子清洗機利用等離子體中各種高能物質的活化,完全剝離和去除物體表麵吸附的汙垢。目前,等離子清洗機主(zhǔ)要分為兩類,一類是(shì)大氣等離(lí)子清(qīng)洗機,另一類是真空等離(lí)子清洗(xǐ)機。
大氣等離子清洗(xǐ)機由等離子發生器、輸氣管道、等離子噴嘴(zuǐ)等部件組(zǔ)成。等離子體發生器產生的高壓高頻能量在噴嘴鋼管(guǎn)內(nèi)被(bèi)激活和(hé)控製的輝(huī)光放電(diàn)中產生低溫等離子體(tǐ)。等(děng)離子體通過(guò)壓縮空氣噴射到工件(jiàn)表麵。當等離子(zǐ)體遇到待處理物體的表麵時,物體會發生變(biàn)化和化學反應。表麵已清(qīng)洗幹淨,並有碳化氫汙染物,如油(yóu)脂和輔(fǔ)助添(tiān)加劑等。已經被移除。這些基因可以促進各種塗層材料的粘附,並在粘附和塗料(liào)應用中得到優化。在相同的效果下,通過應用等離子體處理表麵可以獲得非常薄的高壓塗(tú)層表麵,這有(yǒu)利於粘合、塗覆和印刷。不需要機(jī)械和化學處理等其他強作用部件來增(zēng)加粘附性。
真空等離子清洗機由真空發生係統、電氣(qì)控製係統、等離子發生器、真空室、機械等部分組成。真空係統和真空室可根據客(kè)戶的特殊要求定(dìng)製。采用數(shù)控技術(shù)容易,自動化程度高。采用(yòng)高(gāo)精(jīng)度控製裝置,時間(jiān)控製精度非(fēi)常高(gāo);正確的等離子清洗(xǐ)不會在表(biǎo)麵(miàn)產生損(sǔn)傷層(céng),保證了表麵質量。由於(yú)清潔是在真空中進行的,因此不會汙染(rǎn)環境,清潔表麵不會被(bèi)第二次汙(wū)染。
真空等離(lí)子清洗機是氣(qì)體分子在真(zhēn)空和放電等(děng)特殊場合產生的物質。用於產生等(děng)離子體的等離子體清潔/蝕刻裝置布置在密封容(róng)器(qì)中。它廣泛應(yīng)用於(yú)表(biǎo)麵脫脂(zhī)和清洗(xǐ)的等離子(zǐ)刻蝕、聚四氟乙烯(PTFE)和聚四氟乙烯混合物的刻蝕、塑(sù)料、玻璃和陶瓷的表麵活化和清洗、等離子電鍍聚合等工藝,因(yīn)此也應用於汽車電(diàn)子、軍事(shì)電子和印刷電路板製造(zào)行業等(děng)高精度領域。
真空等離子清洗機通過兩個電極形成電磁(cí)場(chǎng),並使用真空泵達到一定的真空度。隨(suí)著氣(qì)體變得越來越稀薄,分子間距(jù)和分子或郭的自由運動距離變得越來(lái)越長。在磁場的作用下,發生碰撞形(xíng)成等離子體。與此同時,輝光(guāng)將會出現。等離子體在電磁場中空間移動,轟(hōng)擊待處理(lǐ)物體的表麵,去除油(yóu)汙和表麵(miàn)氧化物、灰表麵有機(jī)物和其他化學物質(zhì),從而達到表麵處理、清洗(xǐ)和刻蝕的效果。選擇性表麵改性可以(yǐ)通過等離子體處理工藝實現。
上述所講解的(de)就是大氣真空
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