真空等(děng)離子設(shè)備處理空間大,提高了處理能力,采用了(le)可編程(chéng)控製(zhì)器觸摸屏控製係統,精確控製設備運行。主要應用於生物(wù)醫藥行(háng)業(yè)、印刷電路板行業、半導體集成電路領域、矽膠、塑料、聚合物領域、汽車電子行業、航(háng)空(kōng)行業等。
真空等離子設備(bèi)由人(rén)機界麵控(kòng)製,操作更加方便簡單,視覺(jiào)效果更加明(míng)顯。采用不鏽鋼(gāng)腔體(tǐ),可根據用戶要求配(pèi)置頻率、功(gōng)率和電源。除了清潔(jié)功能之外,某(mǒu)些材料的表麵性質(zhì)可以根據特定條件(jiàn)下的要求進行改變。在清洗過程中,真空(kōng)等離子設備的(de)輝光放(fàng)電可以增強這些材(cái)料的附著力、相容性和潤濕性。
真(zhēn)空等離子設備設計合理,可自由組合。防靜電支架可以避免靜電對產品的(de)影響。真空等離子設備可以處理均,而不管要處理的襯底的類型,例如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數聚合物材料。該真空等離子設備設備簡單,易於操作和維護,可以連續運行,而且往往幾瓶氣體就可以(yǐ)替代幾千公斤的清洗液,因此(cǐ)清洗成本大大低於濕法清洗。
真空等(děng)離子設備用於金屬工業(yè),去除金屬表麵的油(yóu)脂、油汙和其他有機物及氧化層。在(zài)汽(qì)車製造業中,真空等離子設備主要用於(yú)汽(qì)車製(zhì)造過程中的塑料和油漆預處(chù)理。在紡織品生產工業中(zhōng),真(zhēn)空等離子設備主要(yào)處理紡織品、過濾器和薄膜的親水性、疏水性和表麵改性。在半導體工業中,真空等離子設備主要用於晶片處理、光刻膠去除和(hé)封裝前預處理。
真空等(děng)離子設備進行表麵清洗和處理清洗可(kě)以去除表麵的脫模劑和添加劑,而(ér)其活化過程可以保(bǎo)證後續的粘接過程和塗覆過程等的質量。對於塗層處理,可以進一步(bù)改善複合材料的表麵特性。采用真空等(děng)離(lí)子設備的等離子體(tǐ)表麵處(chù)理技術可以按照規定的工藝要求(qiú)對材料表麵進行有效的預(yù)處理。無論是產品還是汽車(chē)發動機,真空等離子設備的等離子體表麵處理技術都有(yǒu)助於實現高質量的精益(yì)加(jiā)工。